據美國科技媒體《The Information》報道，中國自主研發的浸沒式深紫外光刻機（DUV）已開始生產，預計今年內交付予中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等主要內地晶片製造商。
報道指出，首批國產DUV光刻機產量仍然有限，今年預計生產約5台，至2027年或增至約20台。相關設備在正式投入大規模晶片生產前，仍需接受晶圓廠測試及驗證，其性能、穩定性和可靠程度與全球主要供應商的成熟產品相比仍存在差距。
DUV光刻機是晶片製造的重要設備，利用深紫外光將電路圖案投射至晶圓表面。浸沒式DUV設備可透過多重曝光等技術，用於生產較先進製程晶片，目前全球高端光刻機市場主要由荷蘭阿斯麥（ASML）主導。
在美國持續收緊先進半導體設備出口限制下，中國近年加快推動晶片設備國產化。報道認為，若國產DUV設備能通過晶圓廠驗證並逐步提高產量，長遠或削弱內地晶片業對進口光刻機的依賴，並對阿斯麥在中國市場的地位構成挑戰。
中國國產浸沒式深紫外光刻機（DUV）已開始生產。（網絡圖片）
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