荷蘭宣布限制高端晶片設備出口

荷蘭政府於當地時間8日正式宣布，將實施晶片製造技術的新出口管制計劃，加入美國遏制對中出口晶片的同盟，藉此「保護國家甚至是國際社會的安全」。荷蘭貿易大臣施萊納馬赫（Liesje Schreinemacher）表示，對中國的出口限制將在夏季之前實施。

美國去年10月針對中國製造晶片的技術與設備實施全面出口管制，同時積極拉攏荷蘭、日本等其他主要供應商共同管制。美國與多個盟邦幾個月來一直就此事進行談判，荷蘭終於也正式宣布加入管制行列。

施萊納馬赫在寫給國會的信中正式宣布了這項重要政策，但沒有提到荷蘭的主要交易夥伴中國，也沒有提到歐洲最大的科技公司和半導體設備供應商阿斯麥（ASML Holding NV）與極紫外光設備（Extreme Ultraviolet，EUV）。她在信中僅特別提到了舊款深紫外光曝光機（DUV），這也是阿斯麥出售給晶片製造商的第二先進的舊款設備。

信件指出，「政府已做出結論，為了國際和國家安全，有必要擴大現行對特定半導體生產設備的出口管制」、「由於荷蘭認為有必要以最快的速度將這項技術納入監督，內閣將會提出一個國家控制清單。」

兩個月前，荷蘭首相呂特（Mark Rutte）前往白宮會晤美國總統拜登，並且針對管制半導體設備出口議題交換意見。

荷：已衡量所有利益選項

阿斯麥市目前光刻機的市場領導者，是唯一有能力生產極紫外光刻機（EUV）的公司，EUV機是製造最新建晶片需要用到的設備。該公司從未向中國客戶出受過EUV，而是出售第二先進的深紫外光光刻機（DUV）。

施萊納馬赫接受傳媒訪問時表示，她已衡量所有選項，但國家安全第一，「我們要避免荷蘭的設備被應用在軍事上，並確保我們的技術領先地位，以及降低對中國的戰略性依賴」，她也呼籲其他歐盟國家跟進，採取一致立場。她又指，雖然與美國經過多次溝通，但「我們是基於自己的評估而做出決定」。

新禁令實施後，許多低端晶片仍可以無需申請出口中國，包括汽車、冰箱、電話、風力發電機晶片等。

阿斯麥：不影響財務前景

阿斯麥對此表示，新的出口管制涉及最先進的浸入式深紫外光（DUV）設備，包括最先進的沉積和浸潤式微影（immersion lithography）設備，公司將為最先進的浸入式DUV系統申請出口許可證。

阿斯麥也強調，這項新管制沒有包含所有的浸入式微影工具，而是所謂的「最先進」工具，但還沒接收到有關「最先進」的定義和資訊。該公司認為可能是 TWINSCAN NXT：2000i 及隨後推出的浸入式設備。

阿斯麥表示，那些專注於成熟製程的客戶可以使用不太先進的浸入式光刻設備，並稱公司的長期方案主要基於全球普世需求和技術趨勢。阿斯麥的EUV設備自2019年就開始受到限制。

阿斯麥稱，目前荷蘭政府的措施不會影響2023年財務前景，或者對長期前景產生重大影響。 （編輯部）