美光擬斥51億美元日本建廠

最快2027年底投產
29/05/2024
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最快2027年底投產

美光科技計劃在日本廣島縣興建生產DRAM晶片的新廠,最快2027年底投入營運。

日刊工業新聞報道,總投資額預估在6,000億至8,000億日圓(51億美元)。新廠將於2026年初動工,並安裝極紫外微影(EUV)設備。

日本政府已批准多達1,920億日圓(13億美元)補貼,支持美光在廣島廠生產新一代晶片。經濟產業省去年表示,這筆經費將協助美光引進荷蘭光刻機巨頭ASML生產EUV設備,這些晶片將是驅動生成式人工智能(AI)、資料中心和自駕技術的關鍵。

美光原有2024年讓新廠投入營運的計劃,但顯然因市況不佳而有所調整。美光2013年併購日本DRAM大廠爾必達(Elpida)事業,在日本擁有超過4,000名工程師和技術人員。

美光計劃在日本廣島縣興建生產DRAM晶片的新廠,最快2027年底投產。 (美聯社圖片)

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